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科研鍍膜設備
產品簡介
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實驗型真空鍍膜設備有外形美觀、結構緊湊、性能多樣、操作簡單可靠、耗電量低的特點?？蓪崿F蒸發鍍膜、磁控濺射鍍膜、HiPIMS、RF、電弧鍍膜、CVD、PECVD等工藝?？蛇M行手動、半自動、全自動控制。有多種尺寸型號可供選擇。
優點優勢
功能可靈活組合；
可結合用戶進行定制化生產，滿足試驗需求；
工藝編程多樣化；
提供聯合實驗開發服務。
技術指標
設備型號 | SP-0305AS | SP-0506AS | SP-0608ASI | SP-1005ASI |
真空室尺寸（mm） | 300×500 | 500×600 | 600×800 | 1000×500 |
極限真空 | 6.0E-5Pa | |||
抽氣時間 | 空載大氣至5.0E-3Pa小于10分鐘 | |||
壓升率 | 1h≤0.5Pa | |||
真空泵組 | 機械泵+羅茨泵+分子泵+維持泵 | |||
加熱系統 | 常溫至500℃可調可控（PID控溫） | |||
加氣系統 | 質量流量控制儀（1-4路） | |||
靶結構 | 感應耦合電離、電子束蒸發、電阻蒸發、多弧靶、濺射靶、射頻靶、離子源等 | |||
電源類型 | 偏壓電源、感應加熱電源、電子槍電源、弧電源、直流濺射電源、中頻濺射電源、射頻電源、HiPIMS電源等 | |||
工件運行方式 | 公轉+自轉 變頻無極調速 | |||
控制方式 | 手動+半自動+全自動一體化+PLC+IPC | |||
備注 | 設備各配置指標可按客戶產品及特殊工藝要求定制 | |||
應用領域
