功能性涂層鍍膜設(shè)備
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介 .png "品牌(2).png"){kind=small}
設(shè)備定制化生產(chǎn)，具有靈活的配置，可集成多種沉積方式，離子弧、濺射、HiPIMS、RF等，適應(yīng)特殊涂層及新行業(yè)應(yīng)用需求，為新涂層，新材料的開(kāi)發(fā)提供更多的可能性。設(shè)備具有沉積速率快，膜層一致性好，生產(chǎn)過(guò)程無(wú)污染等特點(diǎn)，從而解決客戶對(duì)產(chǎn)品的要求。我們行業(yè)經(jīng)驗(yàn)豐富，為客戶提供交鑰匙服務(wù)，解決客戶所需。
優(yōu)點(diǎn)優(yōu)勢(shì)
等離子密度非常高；
涂層結(jié)合力強(qiáng)；
顯微鏡下膜層致密，無(wú)孔洞；
高耐磨性；
技術(shù)指標(biāo)
設(shè)備型號(hào) | SP-0810ASI | SP-1112ASI | SP-1215ASI | SP-1512AI |
真空室尺寸（mm） | 800×1000 | 1100×1200 | 1200×1500 | 1500×1200 |
極限真空 | 6.0E-4Pa | |||
抽氣時(shí)間 | 空載大氣至5.0E-3Pa小于15分鐘 | |||
壓升率 | 1h≤0.5Pa | |||
真空泵組 | 機(jī)械泵+羅茨泵+分子泵+維持泵 | |||
加熱系統(tǒng) | 常溫至500℃可調(diào)可控（PID控溫） | |||
加氣系統(tǒng) | 質(zhì)量流量控制儀（1-4路） | |||
靶架構(gòu) | 圓弧靶、Cloud弧、濺射靶、氣體離子源、蒸發(fā)源 | |||
電源類(lèi)型 | 弧電源、高壓轟擊偏壓電源、HiPIMS濺射電源、SPA電源、射頻電源等 | |||
工件旋轉(zhuǎn)方式 | 公自轉(zhuǎn)+二次自轉(zhuǎn) 變頻可控可調(diào)1-5轉(zhuǎn)/分 | |||
控制方式 | 手動(dòng)+半自動(dòng)+全自動(dòng)一體化+PLC+IPC | |||
備注 | 設(shè)備各配置指標(biāo)可按客戶產(chǎn)品及特殊工藝要求定制 | |||
應(yīng)用領(lǐng)域
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