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3C行業(yè)鍍膜設(shè)備
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
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設(shè)備配置多弧靶、濺射靶、HiPIMS等，它既可以單獨(dú)用電弧或單獨(dú)用磁控濺射鍍膜，也可以利用兩種技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)在鍍膜過(guò)程不同階段發(fā)揮作用，比如在鍍膜初始利用電弧的高能粒子轟擊清洗和打底層，以增強(qiáng)膜/基結(jié)合力；隨后用中頻濺射鍍層，以得到細(xì)膩光滑涂層等。該設(shè)備還可配離子源，可滿(mǎn)足多功能鍍膜的需要。可完成單金屬膜、化合多層復(fù)合膜層，適合3C數(shù)碼產(chǎn)品外觀需要。
優(yōu)點(diǎn)優(yōu)勢(shì)
沉積方式多元化；
涂層美觀、表面細(xì)膩、耐磨損不褪色；
高生產(chǎn)率；
可多材質(zhì)靶材沉積，具有高靈活性；
提供多色系工藝支持和新顏色開(kāi)發(fā)。
技術(shù)指標(biāo)
| 設(shè)備型號(hào) | SP-1212ASI | SP-1512ASI | SP-1618ASI | SP-1912ASI |
| 真空室尺寸(mm) | 1200x1200 | 1500x1200 | 1600x1800 | 1900x1200 |
| 膜層顏色 | 白鉻、鋯金、香檳金、玫瑰金、咖啡色、槍黑、黑色等 | |||
| 極限真空 | 6.0E-4Pa | |||
| 抽氣時(shí)間 | 空載大氣至5.0E-Pa小于15分鐘 | |||
| 壓升率 | 1h≤0.5Pa | |||
| 真空泵組 | 機(jī)械泵+羅茨泵+分子泵/深冷系統(tǒng)+維持泵 | |||
| 加熱系統(tǒng) | 常溫至300℃可調(diào)可控(PID控溫)，不銹鋼加熱管加熱 | |||
| 加氣系統(tǒng) | 質(zhì)量流量控制儀(1-4路) | |||
| 靶結(jié)構(gòu) | 圓弧靶、柱弧靶或平面靶、中頻孿生柱靶、條形離子源 | |||
| 電源類(lèi)型 | 中頻濺射電源、 HiPIMS電源、弧電源、高壓轟擊偏壓電源、直流濺射電源、離子源電源等 | |||
| 工件旋轉(zhuǎn)方式 | 公轉(zhuǎn)+自轉(zhuǎn) 變頻可控可調(diào)1-5轉(zhuǎn)/分 | |||
| 控制方式 | 手動(dòng)+半自動(dòng)+全自動(dòng)一體化+PLC+IPC | |||
| 備注 | 設(shè)備各配置指標(biāo)可按客戶(hù)產(chǎn)品及特殊工藝要求定制 | |||
應(yīng)用領(lǐng)域
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